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      磁控濺射卷繞鍍膜設備的優點

      2021-02-26  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:547


        磁控濺射卷繞鍍膜設備,磁控濺射具有以下兩大優點:提高等離子密度,從而提高濺射速度;減少轟擊零件的電子數目,因而降低了基材因電子的升溫。

        因此,該技術在薄膜技術中占有主導地位。磁控濺射陰極的缺點:使用平面靶材,靶材在跑道區形成濺射溝道,這溝道一旦貫穿靶材,則整塊靶材即報廢,因而靶材的利用率只有20-30%。

        不過,目前為了避免這個缺點,很多靶材采用圓柱靶材形式,靶材利用率得以大幅度提高。

      關鍵詞: 磁控濺射卷繞鍍膜設備           

      肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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